دانلود مقاله ISI انگلیسی شماره 140484
کد مقاله سال انتشار مقاله انگلیسی ترجمه فارسی تعداد کلمات
140484 2017 6 صفحه PDF سفارش دهید 2626 کلمه
دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه

هزینه ترجمه مقاله بر اساس تعداد کلمات مقاله انگلیسی محاسبه می شود.

این مقاله شامل 2626 کلمه می باشد.

نسخه انگلیسی مقاله همین الان قابل دانلود است.

هزینه ترجمه مقاله توسط مترجمان با تجربه، طبق جدول زیر محاسبه می شود:

شرح تعرفه ترجمه زمان تحویل جمع هزینه
ترجمه تخصصی - سرعت عادی هر کلمه 10 تومان 8 روز بعد از پرداخت 26,260 تومان
ترجمه تخصصی - سرعت فوری هر کلمه 20 تومان 4 روز بعد از پرداخت 52,520 تومان
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.
عنوان انگلیسی
Study of Bias-Temperature Instability in HfO2 sputtered Thin Films by Post Nitrogen Annealing for the Advanced CMOS Technology
منبع

Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)

Journal : Materials Today: Proceedings, Volume 4, Issue 8, 2017, Pages 9224-9229

پیش نمایش مقاله
پیش نمایش مقاله

چکیده انگلیسی

This paper presents a study on Negative bias temperature instability (NBTI) on high-k HfO2 sputtered thin films annealed in oxygen and nitrogen ambient. Activation energies for interface, oxide-trap charge and switching states densities for each oxygen and nitrogen ambient annealed devices is estimated from capacitance-voltage measurements versus temperature characteristics. It is found in the range 0.13eV-0.16eV for oxygen annealed sample and 0.47eV – 0.7eV for nitrogen annealed sample. Nitrogen annealed sample shows higher activation energy and low traps charge densities.

دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه

هزینه ترجمه مقاله بر اساس تعداد کلمات مقاله انگلیسی محاسبه می شود.

این مقاله شامل 2626 کلمه می باشد.

نسخه انگلیسی مقاله همین الان قابل دانلود است.

هزینه ترجمه مقاله توسط مترجمان با تجربه، طبق جدول زیر محاسبه می شود:

شرح تعرفه ترجمه زمان تحویل جمع هزینه
ترجمه تخصصی - سرعت عادی هر کلمه 10 تومان 8 روز بعد از پرداخت 26,260 تومان
ترجمه تخصصی - سرعت فوری هر کلمه 20 تومان 4 روز بعد از پرداخت 52,520 تومان
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.