دانلود مقاله ISI انگلیسی شماره 57762
ترجمه فارسی عنوان مقاله

تبدیل یک ساختار سیلیکون عایق فلز به یک دیود تونل رزونانس

عنوان انگلیسی
Transformation of a metal–insulator-silicon structure into a resonant-tunneling diode
کد مقاله سال انتشار تعداد صفحات مقاله انگلیسی
57762 2013 4 صفحه PDF
منبع

Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)

Journal : Microelectronic Engineering, Volume 109, September 2013, Pages 270–273

ترجمه کلمات کلیدی
ساختار سیلیکون اکسید نازک فلز، خوب کوانتوم، تونل زنی رزونانس الکترونی
کلمات کلیدی انگلیسی
Metal–thin oxide–silicon structure; Near-interface quantum well; Electron resonant tunneling
ترجمه چکیده
نشان داده شده است که دیودهای متالایزای اکسید نیمه هادی، با دو برابر موانع شفاف تونل به علت سیلیکون به شدت واگرا و مقره نانومتر نازک، مراحل یا قله های منحنی ولتاژ جریان استاتیک را نشان می دهد. برای تعریف مثبت دروازه، ظهور این ویژگی ها در هر دو شبیه سازی و اندازه گیری نشان می دهد تونل زدن تونل زنی الکترون ها از گروه سیمان واژنی از طریق سطوح گسسته از چاه کوانتومی نزدیک به فلز در رژیم از بین رفتن عمیق در فضای سیلیکون فضا منطقه

چکیده انگلیسی

A metal–oxide-semiconductor diode, with two tunnel-transparent barriers due to heavily doped silicon and nanometer-thin insulator, has been shown to exhibit steps or peaks in the static current–voltage curves. For the positive gate bias, appearance of these features in both simulations and measurements testifies to resonant tunneling of electrons from the silicon valence band via the discrete levels of the near-interface quantum well into the metal in the regime of deep depletion in silicon space charge region.