ترجمه فارسی عنوان مقاله
مهندسی کشش ساختارهای نازک سیلیکونی فوق العاده نازک با استفاده از کاشت و کریستالی شدن یون های اکسید
عنوان انگلیسی
Strain engineering of ultra-thin silicon-on-insulator structures using through-buried-oxide ion implantation and crystallization
کد مقاله | سال انتشار | تعداد صفحات مقاله انگلیسی |
---|---|---|
57802 | 2013 | 5 صفحه PDF |
منبع
Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)
Journal : Solid-State Electronics, Volume 83, May 2013, Pages 37–41