دانلود مقاله ISI انگلیسی شماره 57616
ترجمه فارسی عنوان مقاله

نسل دوم هارمونیک برای خصوصیات غیر مخرب بدون تماس سیلیکون روی وفل های عایق

عنوان انگلیسی
Second harmonic generation for contactless non-destructive characterization of silicon on insulator wafers
کد مقاله سال انتشار تعداد صفحات مقاله انگلیسی ترجمه فارسی
57616 2016 7 صفحه PDF سفارش دهید
دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.
تولید محتوا برای سایت شما
پایگاه ISIArticles آمادگی دارد با همکاری مجموعه «شهر محتوا» با بهره گیری از منابع معتبر علمی، برای کتاب، سایت، وبلاگ، نشریه و سایر رسانه های شما، به زبان فارسی «تولید محتوا» نماید.
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای سایت یا وبلاگ شما
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای کتاب شما
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای نشریه یا رسانه شما
  • و...

پیشنهاد می کنیم کیفیت محتوای سایت خود را با استفاده از منابع علمی، افزایش دهید.

منبع

Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)

Journal : Solid-State Electronics, Volume 115, Part B, January 2016, Pages 237–243

چکیده انگلیسی

In this work we investigate a non-invasive, non-destructive characterization technique for monitoring the quality of film, oxide and interfaces in silicon-on-insulator (SOI) wafers. This technique is based on optical Second Harmonic Generation (SHG). The principles of SHG and the experimental setup will be thoroughly described. The experimental parameters best suited for testing SOI wafers with SHG are identified. SOI geometry, as well as the passivation of the top surface, both have an impact on the observed SHG signal. The back-gate bias applied on the substrate is shown to modulate the SHG signal.

دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.