دانلود مقاله ISI انگلیسی شماره 58175
ترجمه فارسی عنوان مقاله

بررسی افزایش ضریب توان ترموالکتریکی لایه های نازک اکسید روی توسط دوپینگ Al با استفاده از فناوری پوشش دهی الکترواستاتیک مگنترون پالس DC نامتقارن دوقطبی

عنوان انگلیسی
Investigation on the Enhancement of the Thermoelectric Power Factor of ZnO Thin Films by Al-doping using Asymmetric Bipolar Pulsed-DC Magnetron Sputtering Technology ☆
کد مقاله سال انتشار تعداد صفحات مقاله انگلیسی ترجمه فارسی
58175 2014 4 صفحه PDF سفارش دهید
دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه

نسخه انگلیسی مقاله همین الان قابل دانلود است.

هزینه ترجمه مقاله بر اساس تعداد کلمات مقاله انگلیسی محاسبه می شود.

این مقاله تقریباً شامل 1816 کلمه می باشد.

هزینه ترجمه مقاله توسط مترجمان با تجربه، طبق جدول زیر محاسبه می شود:

شرح تعرفه ترجمه زمان تحویل جمع هزینه
ترجمه تخصصی - سرعت عادی هر کلمه 18 تومان 5 روز بعد از پرداخت 32,688 تومان
ترجمه تخصصی - سرعت فوری هر کلمه 36 تومان 3 روز بعد از پرداخت 65,376 تومان
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.
تولید محتوا برای سایت شما
پایگاه ISIArticles آمادگی دارد با همکاری مجموعه «شهر محتوا» با بهره گیری از منابع معتبر علمی، برای کتاب، سایت، وبلاگ، نشریه و سایر رسانه های شما، به زبان فارسی «تولید محتوا» نماید.
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای سایت یا وبلاگ شما
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای کتاب شما
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای نشریه یا رسانه شما
  • و...

پیشنهاد می کنیم کیفیت محتوای سایت خود را با استفاده از منابع علمی، افزایش دهید.

سفارش تولید محتوا کد تخفیف 10 درصدی: isiArticles
منبع

Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)

Journal : Energy Procedia, Volume 61, 2014, Pages 2355–2358

ترجمه کلمات کلیدی
رسانایی الکتریکی؛ پالس DC ؛ پوشش دهی الکترواستاتیک مگنترون
کلمات کلیدی انگلیسی
Al-doped ZnO thin films; electrical conductivity; pulsed-dc magnetron sputtering
پیش نمایش مقاله
پیش نمایش مقاله بررسی افزایش ضریب توان ترموالکتریکی لایه های نازک اکسید روی توسط دوپینگ Al با استفاده از فناوری پوشش دهی الکترواستاتیک مگنترون پالس DC نامتقارن دوقطبی

چکیده انگلیسی

ZnO and Al-doped ZnO thin films were deposited on ceramic substrate by using an asymmetric bipolar pulsed-DC magnetron sputtering system under Ar atmosphere. Compacted ZnO powder and ZnO:Al2O3 premixed powder in copper supports were used as sputtering targets for the deposition of ZnO and Al-doped ZnO thin films, respectively. Optical emissions from the plasma during the deposition, measured using a high resolution spectrometer in the wavelength range of 360-800 nm, showed that the constituents of each target were successfully sputtered off. X-ray diffraction (XRD) analysis confirmed the formation of ZnO and Al-doped ZnO thin films of hexagonal crystal structure. The deposition rates of 24 and 15 nm/min were obtained for the ZnO and Al-dopoed ZnO thin films, respectively. The electrical conductivity and Seebeck coefficient of the thin films were measured at room temperature by the steady state and the Van der Pauw four probe methods, respectively. The increase in thermoelectric power factor of about 2 orders of magnitude was observed for the Al-doped ZnO thin films.

دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه

نسخه انگلیسی مقاله همین الان قابل دانلود است.

هزینه ترجمه مقاله بر اساس تعداد کلمات مقاله انگلیسی محاسبه می شود.

این مقاله شامل 1816 کلمه می باشد.

هزینه ترجمه مقاله توسط مترجمان با تجربه، طبق جدول زیر محاسبه می شود:

شرح تعرفه ترجمه زمان تحویل جمع هزینه
ترجمه تخصصی - سرعت عادی هر کلمه 18 تومان 5 روز بعد از پرداخت 32,688 تومان
ترجمه تخصصی - سرعت فوری هر کلمه 36 تومان 3 روز بعد از پرداخت 65,376 تومان
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.