ترجمه فارسی عنوان مقاله
به سمت اجرای فرآیند نیکل دو ظرفیتی سیلیکون برای فن آوری های CMOS
عنوان انگلیسی
Towards implementation of a nickel silicide process for CMOS technologies
کد مقاله | سال انتشار | تعداد صفحات مقاله انگلیسی | ترجمه فارسی |
---|---|---|---|
56123 | 2003 | 14 صفحه PDF | سفارش دهید |
دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه
نسخه انگلیسی مقاله همین الان قابل دانلود است.
هزینه ترجمه مقاله بر اساس تعداد کلمات مقاله انگلیسی محاسبه می شود.
این مقاله تقریباً شامل 8591 کلمه می باشد.
هزینه ترجمه مقاله توسط مترجمان با تجربه، طبق جدول زیر محاسبه می شود:
شرح | تعرفه ترجمه | زمان تحویل | جمع هزینه |
---|---|---|---|
ترجمه تخصصی - سرعت عادی | هر کلمه 70 تومان | 13 روز بعد از پرداخت | 601,370 تومان |
ترجمه تخصصی - سرعت فوری | هر کلمه 140 تومان | 7 روز بعد از پرداخت | 1,202,740 تومان |
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.
منبع

Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)
Journal : Microelectronic Engineering, Volume 70, Issues 2–4, November 2003, Pages 144–157
ترجمه کلمات کلیدی
سیلیسید نیکل؛ نیسی؛ انتشار؛ فاز غنی فلزی ؛ تراکم؛ ثبات فیلم؛ CoSi2
کلمات کلیدی انگلیسی
Nickel silicide; NiSi; Diffusion; Metal rich phase; Agglomeration; Film stability; CoSi2