دانلود مقاله ISI انگلیسی شماره 56123
ترجمه فارسی عنوان مقاله

به سمت اجرای فرآیند نیکل دو ظرفیتی سیلیکون برای فن آوری های CMOS

عنوان انگلیسی
Towards implementation of a nickel silicide process for CMOS technologies
کد مقاله سال انتشار تعداد صفحات مقاله انگلیسی ترجمه فارسی
56123 2003 14 صفحه PDF سفارش دهید
دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه

نسخه انگلیسی مقاله همین الان قابل دانلود است.

هزینه ترجمه مقاله بر اساس تعداد کلمات مقاله انگلیسی محاسبه می شود.

این مقاله تقریباً شامل 8591 کلمه می باشد.

هزینه ترجمه مقاله توسط مترجمان با تجربه، طبق جدول زیر محاسبه می شود:

شرح تعرفه ترجمه زمان تحویل جمع هزینه
ترجمه تخصصی - سرعت عادی هر کلمه 18 تومان 13 روز بعد از پرداخت 154,638 تومان
ترجمه تخصصی - سرعت فوری هر کلمه 36 تومان 7 روز بعد از پرداخت 309,276 تومان
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.
تولید محتوا برای سایت شما
پایگاه ISIArticles آمادگی دارد با همکاری مجموعه «شهر محتوا» با بهره گیری از منابع معتبر علمی، برای کتاب، سایت، وبلاگ، نشریه و سایر رسانه های شما، به زبان فارسی «تولید محتوا» نماید.
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای سایت یا وبلاگ شما
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای کتاب شما
  • تولید محتوا با مقالات ISI برای نشریه یا رسانه شما
  • و...

پیشنهاد می کنیم کیفیت محتوای سایت خود را با استفاده از منابع علمی، افزایش دهید.

سفارش تولید محتوا کد تخفیف 10 درصدی: isiArticles
منبع

Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)

Journal : Microelectronic Engineering, Volume 70, Issues 2–4, November 2003, Pages 144–157

ترجمه کلمات کلیدی
سیلیسید نیکل؛ نیسی؛ انتشار؛ فاز غنی فلزی ؛ تراکم؛ ثبات فیلم؛ CoSi2
کلمات کلیدی انگلیسی
Nickel silicide; NiSi; Diffusion; Metal rich phase; Agglomeration; Film stability; CoSi2
پیش نمایش مقاله
پیش نمایش مقاله به سمت اجرای فرآیند نیکل دو ظرفیتی سیلیکون برای فن آوری های CMOS

چکیده انگلیسی

In this paper, we review some of the advantages and disadvantages of nickel silicide as a material for the electrical contacts to the source, drain and gate of current and future CMOS devices. We first present some of the limitations imposed on the current cobalt silicide process because of the constant scaling, of the introduction of new substrate geometries (i.e. thin silicon on insulator) and of the modifications to the substrate material (i.e. SiGe). We then discuss the advantages of NiSi and for each of the CoSi2 limitations, we point out why Ni is believed to be superior from the point of view of material properties, miscibility of phases and formation mechanisms. Discussion follows on the expected limitations of NiSi and some of the possible solutions to palliate these limitations.

دانلود فوری مقاله + سفارش ترجمه

نسخه انگلیسی مقاله همین الان قابل دانلود است.

هزینه ترجمه مقاله بر اساس تعداد کلمات مقاله انگلیسی محاسبه می شود.

این مقاله شامل 8591 کلمه می باشد.

هزینه ترجمه مقاله توسط مترجمان با تجربه، طبق جدول زیر محاسبه می شود:

شرح تعرفه ترجمه زمان تحویل جمع هزینه
ترجمه تخصصی - سرعت عادی هر کلمه 18 تومان 13 روز بعد از پرداخت 154,638 تومان
ترجمه تخصصی - سرعت فوری هر کلمه 36 تومان 7 روز بعد از پرداخت 309,276 تومان
پس از پرداخت، فوراً می توانید مقاله را دانلود فرمایید.