ترجمه فارسی عنوان مقاله
به سمت اجرای فرآیند نیکل دو ظرفیتی سیلیکون برای فن آوری های CMOS
عنوان انگلیسی
Towards implementation of a nickel silicide process for CMOS technologies
کد مقاله | سال انتشار | تعداد صفحات مقاله انگلیسی |
---|---|---|
56123 | 2003 | 14 صفحه PDF |
منبع
Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)
Journal : Microelectronic Engineering, Volume 70, Issues 2–4, November 2003, Pages 144–157
ترجمه کلمات کلیدی
سیلیسید نیکل؛ نیسی؛ انتشار؛ فاز غنی فلزی ؛ تراکم؛ ثبات فیلم؛ CoSi2
کلمات کلیدی انگلیسی
Nickel silicide; NiSi; Diffusion; Metal rich phase; Agglomeration; Film stability; CoSi2