ترجمه فارسی عنوان مقاله
اولین دستگاه هال عمودی در تکنولوژی CMOS با 0.35 میکرون استاندارد
عنوان انگلیسی
First Vertical Hall Device in standard 0.35 μm CMOS technology
کد مقاله | سال انتشار | تعداد صفحات مقاله انگلیسی |
---|---|---|
56144 | 2008 | 6 صفحه PDF |
منبع
Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)
Journal : Sensors and Actuators A: Physical, Volume 147, Issue 1, 15 September 2008, Pages 41–46
ترجمه کلمات کلیدی
اثر هال؛ دستگاه عمودی هال (VHD)؛ تکنولوژی CMOS استاندارد
کلمات کلیدی انگلیسی
Hall effect; Vertical Hall Device (VHD); Standard CMOS technology