ترجمه فارسی عنوان مقاله
بررسی ایریدیوم به عنوان یک الکترود گیت برای تکنولوژی CMOS زیر میکرون عمیق
عنوان انگلیسی
Investigation of iridium as a gate electrode for deep sub-micron CMOS technology
کد مقاله | سال انتشار | تعداد صفحات مقاله انگلیسی |
---|---|---|
56125 | 2003 | 4 صفحه PDF |
منبع
Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)
Journal : Microelectronic Engineering, Volume 70, Issues 2–4, November 2003, Pages 373–376
ترجمه کلمات کلیدی
گیت فلزی؛ تابع کار؛ ایریدیوم
کلمات کلیدی انگلیسی
Metal gate; Work function; Iridium