ترجمه فارسی عنوان مقاله
مطالعه شبیه سازی عایق فرمت سیلیکون کم عمق در هیچ چیز برای کاربردهای دمای بالا
عنوان انگلیسی
Simulation study of Insulated Shallow Extension Silicon On Nothing (ISESON) MOSFET for high temperature applications
کد مقاله | سال انتشار | تعداد صفحات مقاله انگلیسی |
---|---|---|
10096 | 2012 | 3 صفحه PDF |
منبع
Publisher : Elsevier - Science Direct (الزویر - ساینس دایرکت)
Journal : Microelectronics Reliability, , Volume 52, Issue 8, August 2012, Pages 1610-1612
ترجمه کلمات کلیدی
عایق سیلیکون فرمت کم عمق - مطالعه شبیه سازی
کلمات کلیدی انگلیسی
Insulated Shallow Extension Silicon,Simulation study